Produktdetails:
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Pumpende Geschwindigkeit: | 1401L/s | Schmierung: | Maglev |
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Flansch: | ISO-F/CF 200 | Abkühlen: | Wasser |
Markieren: | molekulare Pumpen Turbos,turbomolecular Vakuumpumpe,Industrielle Turbomolecular-Pumpe |
Magnetschwebepumpe, CXF-200/1401, Wasserkühlung, An Bord
Das elektromagnetische Lager wird auch als "aktiver Magnetschwebebär" bezeichnet und besteht aus einem Magnetlager, einem Sensor und einem Steuersystem. Dieses Design hat ein dynamisches Ansprechverhalten und eine zeitnahe Anpassung, die Hochgeschwindigkeitswelle und einen zuverlässigen Betrieb.
Die magnetisch schwebenden Molekularpumpen sind die Pumpen, deren Welle durch Magnetkraft unterstützt wird.
Magnetschwebemolekularpumpen der Serie sind Vakuumerzeugungsgeräte, die von KYKY entwickelt wurden, um die Anwendungsanforderungen auf den Gebieten der modernen Halbleiterfertigung, der Chipherstellung, der industriellen Beschichtung und wissenschaftlicher Instrumente zu erfüllen.
Technologien:
Die Vorteile:
1. Reibungsfrei während des Betriebs und geringer Stromverbrauch
2. Leicht zu beschaffen, wirklich sauberes Hochvakuum und Ultrahochvakuum ohne Schmierung für Pumpen
3.Kann langfristig ätzende Gase absaugen
4. Hohe Sicherheit und lange Lebensdauer durch Lagerschutz mit Präzisionskeramikkugeln
5. Stromerzeugungsfunktion im Falle einer plötzlichen Abschaltung
Spezifikationen:
Modell | CXF-200/1401 |
Pumpengeschwindigkeit (l / s, Luft) | 1400 |
Kompressionsrate | > 1 × 10 7 |
Ultimatives Vakuum (Pa) | ≤ 2 × 10 -6 |
Einlassflansch | DN200 ISO K (LF) |
DN200 ISO F | |
DN200 ISO CF | |
Ausgangsflansch | KF 40 |
Drehzahl (U / min) | 33000 |
Hochlaufzeit (min) | 6 |
VIB (mm) | <0,05 |
Vorpumpe (L / s) | fünfzehn |
Montage oder Ientation | Irgendein |
Kühlungsmethode | Wasser |
Gewicht (kg) (mit Controller) | 51 |
Anwendungen:
Magnetschwebemolekularpumpen der Serie werden hauptsächlich in den Bereichen Halbleiterherstellung, Klammerherstellung, industrielle Plattierung und wissenschaftliche Instrumente eingesetzt, insbesondere zum Absaugen von korrosiven Gasen, die bei Ätz-, CVD-, PVD- und Ionenimplantation vorhanden sind, sowie von Gasen, die bei Normaltemperatur leicht koagulieren.
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