PA-Enddruck CER KYKY Ion Vacuum Pump DN150CF Flansch-7E-8 genehmigte

Ionenpumpe, 3L-100, DN150CF, 110 l / s Luft, 24 l / s Ar, -5 kV, 2,7E-8Pa

Die Sputter-Ionen-Pumpe ist ein Vakuumerzeugungsgerät zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums. Die Sputter-Ionen-Pumpe ist die Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.

Prinzip:

Material der Anode ist Edelstahlgehäuse und Material der Kathode ist Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung eines Magnetfelds und eines elektrischen Felds, wodurch die Erschöpfung von Gas realisiert wird.

Die Triodenionenpumpe wird verbessert, um die Pumprate für Inertgas zu erhöhen. Inertgasionen werden einem streifenden Einfall in das Titangitter der Kathode ausgesetzt, dann neutralisiert und zur Pumpenwand und Anode reflektiert, um mit dem Titanfilm vergraben zu werden. Da Inertgas, das in der Pumpenwand vergraben ist, aufgrund eines positiven Ionenbeschusses nicht freigesetzt wird, wird die Pumpgeschwindigkeit für Inertgas erhöht.

Vorteile:

Diese Pumpenserie bietet Vorteile wie Sauberkeit, hohen Vakuumgrad, Geräuschfreiheit, Vibrationsfreiheit und Bedienkomfort.

Anwendungen:

1. Hochenergetischer Teilchenbeschleuniger

2. Kontrollierte thermonukleare Reaktionsapparatur

3. Elektrisches Vakuumgerät

4. Halbleitermaterial

5. Elektronisches Mikroskop

6. Massenspektrometer

Spezifikationen: